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在芯片制造領(lǐng)域內(nèi)，臺(tái)積電一直占據(jù)著頂端的位置。當(dāng)然三星電子近年來發(fā)起攻勢(shì)，勢(shì)必要拉小差距。近日有消息稱臺(tái)積電EUV光刻機(jī)采購破50臺(tái),而這對(duì)于三星2021年還不到25臺(tái)來說又是一個(gè)打擊。

根據(jù)臺(tái)媒DigiTimes報(bào)道，臺(tái)積電加速先進(jìn)制程推進(jìn)，近期擴(kuò)大釋單，累計(jì)EUV機(jī)臺(tái)至2021年底將超過50臺(tái)。

熟悉半導(dǎo)體芯片領(lǐng)域發(fā)展的人都知道，想要生產(chǎn)出高端的芯片，就必須要有高端的光刻機(jī)才行，光刻機(jī)作為半導(dǎo)體芯片領(lǐng)域最為核心的一大元器件，可以說是不可替代的。而EUV光刻機(jī)的價(jià)格也是不菲的。

報(bào)道指出，相較之下，三星電子2021年還不到25臺(tái)，同時(shí)EUV POD(光罩傳送盒)采購量遠(yuǎn)低于預(yù)期。

此外，在尖端制造實(shí)力方面，臺(tái)積電占據(jù)了業(yè)界 EUV(極紫外光)設(shè)備安裝量的50%。此外，臺(tái)積電還擁有約60%的EUV晶圓累計(jì)產(chǎn)量。

據(jù)了解，臺(tái)積電是全球首家掌握5nm芯片工藝并實(shí)現(xiàn)了量產(chǎn)的廠商，雖然三星也掌握了5nm的工藝，但其存在良品率低的問題。

另外，在更先進(jìn)的3nm和2nm工藝上，臺(tái)積電也實(shí)現(xiàn)了突破。據(jù)悉，臺(tái)積電表示將會(huì)在2021年試生產(chǎn)3nm的芯片。在2nm工藝上，臺(tái)積電也找打了突破口，將會(huì)采用環(huán)繞柵極晶體管技術(shù)。

在工藝方面，臺(tái)積電已經(jīng)在滿負(fù)荷的生產(chǎn)5nm的芯片。但三星卻表示，可能讓出部分5nm芯片的產(chǎn)能，這意味三星5nm的芯片訂單并不多。

更何況，有消息稱，三星5nm的芯片還存在良品率等方面的問題。