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ASML的EUV光刻機(jī)已經(jīng)成為7nm以下制程的關(guān)鍵了，三星、臺(tái)積電、Intel都在購(gòu)買(mǎi)單價(jià)高達(dá)10億元的EUV光刻機(jī)用于生產(chǎn)。除了CPU之外，內(nèi)存工藝也會(huì)逐步導(dǎo)入EUV光刻機(jī)，三星之后SK海力士也要這么做。

　　據(jù)韓國(guó)媒體報(bào)道，全球第二大DRAM內(nèi)存供應(yīng)商SK海力士已經(jīng)在研發(fā)1a nm工藝的內(nèi)存，內(nèi)部代號(hào)南極星，具體節(jié)點(diǎn)大概在15nm，預(yù)計(jì)會(huì)引入EUV光刻機(jī)生產(chǎn)。

　　對(duì)內(nèi)存來(lái)說(shuō)，它跟CPU邏輯工藝一樣面臨著需要微縮的問(wèn)題，EUV光刻機(jī)可以減少多重曝光工藝，提供工藝精度，從而可以減少生產(chǎn)時(shí)間、降低成本，并提高性能。

　　不過(guò)內(nèi)存使用EUV工藝問(wèn)題也不少，首要問(wèn)題就是EUV光刻機(jī)售價(jià)太高，10億一臺(tái)，還要考慮到維護(hù)費(fèi)用，所以初期要承擔(dān)不小的成本壓力。

　　目前SK海力士最先進(jìn)的內(nèi)存工藝主要是1y、1z nm，今年下半年這兩種工藝將占到40%的產(chǎn)能比重。

　　3月初，三星表示，將從第四代10nm級(jí)（D1a）DRAM或高端級(jí)14nm級(jí)DRAM開(kāi)始全面導(dǎo)入EUV，明年基于D1a大規(guī)模量產(chǎn)DDR5和LPDDR5內(nèi)存芯片，預(yù)計(jì)會(huì)使12英寸晶圓的生產(chǎn)率翻番。

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